L'Usec renonce au développement de l'enrichissement par laser

En conséquence, elle a donc mis fin avant terme au contrat de R &D qu'elle avait conclu en 1996 avec la Silex Systems Ltd. australienne. L'accord comportait une licence exclusive d'utilisation par l'Usée du procédé Silex. La licence est maintenant caduque, et Silex Systems est libre d'utiliser elle-même les résultats de ses travaux ou de céder des licences à des tiers.
L'Usée est le plus gros fournisseur mondial de services d'enrichissement d'uranium. Jusqu'à aujourd'hui, l'entreprise privatisée en 1998 travaillait exclusivement avec des unités à diffusion gazeuses grosses consommatrices d'énergie, unités reprises du Département de l'énergie américain. En 1999, l'Usée a évalué les techniques avancées d'enrichissement, parmi lesquelles divers systèmes de centrifugation, ainsi que l'enrichissement par laser aussi bien selon la technique Silva de séparation isotopique par laser de la vapeur atomique d'uranium que selon la technique Silex d'excitation moléculaire. Suite à cette évaluation, l'Usée a décidé de ne plus poursuivre le procédé Silva, favorisé par le DOE, de se concentrer sur la poursuite du développement et la démonstration du système américain de centrifugation, et de continuer parallèlement ses recherches sur l'enrichissement moléculaire par laser, en coopération avec Silex Systems. L'Usée est parvenue maintenant à la conclusion qu'il était "invraisemblable" que cette technique puisse remplir en temps utile les exigences requises. D'autres investissements dans ce domaine seraient ainsi injustifiables vis-à-vis des actionnaires de l'Usée. Dès le 12 février 2003, l'Usée a donc déposé auprès de la Commission américaine de la réglementation nucléaire une demande d'autorisation de construction et d'exploitation à Pike-ton, dans l'Ohio, d'une installation de démonstration utilisation la technique américaine de la centrifugation.
L'entreprise Silex Systems Ltd, qui a été fondée en 1988, travaille dans le centre australien de Lucas Heights sur le développement de la séparation isotopique par excitation et transformation induites par laser de molécules gazeuses. Dans le cadre de l'accord conclu en 1996 avec l'Usée, elle a construit avec succès jusqu'en janvier 2000 un module pilote qui se sert comme matière initiale d'hexafluorure d'uranium, lequel est également utilisé dans la séparation par diffusion gazeuse et par centrifugation gazeuse. Un laser adapté transforme sélectivement de l'hexafluorure d'uranium en pentafluorure d'uranium, ce qui permet la séparation chimique de l'U 235 et de l'U 238. Silex Systems travaille depuis sur l'ingénierie d'une installation pilote. Selon le contrat conclu avec l'Usée, la construction de cette installation devait commencer au cours du deuxième semestre de 2003, ce à quoi renonce maintenant l'Usée.
On ne sait pas si Silex Systems trouvera des investisseurs de remplacement. Ils poursuivront néanmoins le développement d'autres applications pratiques de la séparation isotopique moléculaire induite par laser, notamment la production de silicium 28 pour des composants améliorés de semi-conducteurs ainsi que de certains isotopes de bore, de zirconium, de zinc et de gadolinium pour des assemblages combustibles à haut rendement dans la technique des réacteurs, ceci dans le cadre d'un accord de recherche et développement conclu en 2000 avec Westinghouse.